Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten, bei dem die Substrate kontinuierlich durch einen Abscheideraum transportiert werden und gleichzeitig Massnahmen ergriffen werden, um parasitäre Abscheidungen so gut wie möglich zu reduzieren. Ebenso betrifft die Erfindung eine entsprechende Vorrichtung für die kontinuierliche Beschichtung von Substraten.

The invention relates to a method for continuously coating substrates, in which the substrates are transported continuously through a deposition space and measures are simultaneously taken to reduce parasitic deposition as much as possible. The invention likewise relates to a corresponding device for continuously coating substrates.