Patent
Title

Verfahren und Vorrichtung zur Beeinflussung der Schichtdickenverteilung auf Substraten sowie derart beschichtete Substrate

Abstract
Source: DE102013208771A1 [DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Beeinflussung der Schichtdickenverteilung auf Substraten bei Sputterprozessen unter Verwendung von mindestens zwei Magnetrons. Ebenso betrifft die Erfindung beschichtete Substrate mit einer ausgezeichneten Homogenitaet der Beschichtung.
Inventor(s)
Vergöhl, Michael  
Rademacher, Daniel
Zickenrott, Tobias  
Link to:
Patent Number
102013208771
Publication Date
2014
Language
German