Verfahren zur Herstellung einer haftfesten, diamantaehnlichen Kohlenstoffschicht auf einer Substratoberflaeche

Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung einer haftfesten, amorphen Kohlenwasserstoffschicht auf einer Substratoberflaeche mittels ionenunterstuetzter Abscheidung, mit einer Substratelektrode, deren Oberflaeche die Substratoberflaeche bildet, auf der die a-C:H-Schicht abgeschieden wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass waehrend des Abscheidevorganges die Oberflaeche der Substratelektrode zumindest zeitweise auf Temperaturen von unter 203 K gekuehlt wird.

DE 19952465 C UPAB: 20010312 NOVELTY - Production of an adhesive-tight amorphous hydrocarbon layer on a substrate surface uses ion-supported deposition with a substrate electrode whose surface forms the substrate surface on which an a-C: H layer is deposited. During the deposition process, the surface of the substrate electrode is temporarily cooled to below 203 K. DETAILED DESCRIPTION - Preferred Features: The substrate electrode is cooled to temperatures down to 10 K, preferably 70-170 K. Cooling of the substrate electrode is carried out using an alcohol or liquid nitrogen as cooling agent which flows through the substrate electrode. The ion-supported deposition is carried out in the framework of a cold plasma deposition process such as PVD or PECVD. USE - For cutting tools. ADVANTAGE - Production costs are reduced.