Verfahren zur lokalen Erhoehung der optischen Transparenz von Siliziummembranen

Beschrieben wird ein Verfahren zur lokalen Erhoehung der optischen Transparenz von Siliziummenbranen, die in der Roentgenlithographie als Masken Verwendung finden. Um eine genaue Justierung mit lichtoptischen Methoden zu gewaehrleisten, muessen die Membranen in den Bereichen von Justierstrukturen eine moeglichst hohe Transparenz aufweisen. Dies wird erfindungsgemaess durch Abtrag von Material aus lokalen Bereichen gewaehrleistet. Mit einem nasschemischen Aetzverfahren werden bei Verwendung einer modifizierten "Schaeferaetze" spiegelnd glatte Oberflaechen erreicht. Mit einem Trockenaetzverfahren kann das Material aus den lokalen Bereichen durchgaengig abgetragen werden, so dass freitragende Justierstrukturen entstehen.