Vorrichtung und Verfahren fuer die XUV-Mikroskopie

(A1) Die Erfindung betrifft ein optisches Abbildungssystem, aufweisend eine erste Vergroesserungsstufe, mit der ein Zwischenbild zumindest eines Teilbereichs eines Objektes unter Erzielung einer ersten Vergroesserung mittels von dem Objekt ausgehender XUV-Strahlung erzeugbar ist, zumindest eine zweite Vergroesserungsstufe, sowie einen fuer XUV-Strahlung empfindlichen Detektor, wobei mit der zweiten Vergroesserungsstufe das Zwischenbild unter Erzielung einer zweiten Vergroesserung auf den Detektor abbildbar ist, und wobei die zweite Vergroesserungsstufe eine Zonenplatte umfasst.

DE 102007041939 A1 UPAB: 20090323 NOVELTY - The optical imaging system, for extreme UV (XUV) microscopy, has an initial enlargement stage (1',1') giving an intermediate image (5) of at least part of the object (3) being examined using XUV rays. A second enlargement stage (2) and a detector (4) sensitive to XUV gives the intermediate image further enlargement at the detector. The second stage incorporates a zone plate (2). USE - The imaging system is for XUV microscopy detection of defects in wafers, masks and mask blanks for extreme UV lithography. (All claimed). ADVANTAGE - The system detects small faults in large surfaces.