Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Beschichtung eines Substrates (2) mit einer Vakuumkammer (10) und zumindest einer Vakuumpumpe (11), welche dazu eingerichtet ist, die Vakuumkammer (10) zu evakuieren, und mit zumindest einer Substrathalterung (20), welche innerhalb der Vakuumkammer (10) angeordnet und dazu eingerichtet ist, das zu beschichtende Substrat (2) aufzunehmen, und mit zumindest einer Einrichtung (3) zur Erzeugung einer Beschichtung, welche innerhalb der Vakuumkammer (10) angeordnet ist, wobei die Vakuumkammer (10) weiterhin zumindest eine Reinigungsvorrichtung (4) enthält, welche zumindest eine Adhäsionswalze (40) enthält, welche über eine Oberfläche (201) des Substrates (2) führbar ist und welche dazu eingerichtet ist, auf dem Substrat (2) anhaftende Partikel (25) zu binden. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrates (2).