Verfahren zum Abscheiden einer transparenten, elektrisch leitfähigen Metalloxidschicht

DE102013210155A1 [DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden einer transparenten, elektrisch leitfaehigen Metalloxidschicht auf mindestens einem Substrat durch Zerstaeuben mindestens eines Targets im Plasma mindestens einer Magnetron-Sputterquelle (2) innerhalb einer Arbeitskammer (1), wobei das Plasma der Magnetron-Sputterquelle (2) zumindest teilweise mit dem Plasma mindestens einer magnetfeldunterstuetzten Hohlkatoden-Bogenentladung ueberlagert wird.