Verfahren zur Deposition von Schichtsystemen, derart beschichtete Substrate und deren Verwendung

(A2) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Deposition eines optisch transparenten und elektrisch leitfaehigen Schichtsystems auf einem Substrat. Mit Hilfe dieses Verfahrens ist es auch moeglich, polymere Substrate bei sehr geringen Subtrattemperaturen zu beschichten. Verwendung findet das Verfahren bei der Herstellung von waermereflektierenden Beschichtungen verschiedenster Substrate, wie z.B. Flachbildschirmen, Solarzellen oder anderen optoelektronischen Bauteilen.

EP 1204149 A UPAB: 20031203 NOVELTY - Process for depositing an optically transparent and electrically conducting layer system to a substrate comprises depositing the layer system to a polymeric substrate at a substrate temperature of 10-200 deg. C. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for the coated substrate obtained. USE - Used for coating flat TV screens, solar cells and other optoelectronic components (claimed). ADVANTAGE - The layer system has only a small amount of defects.