Verfahren zum Erzeugen eines Plasmas

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Plasmas, bei dem innerhalb einer Vakuumkammer (2) eine Materialquelle (5) angeordnet und diese derart ausgebildet wird, dass die Materialquelle einen Hohlraum umschliesst und mindestens eine Mündungsöffnung (5) aufweist, wobei mittels einer die Materialquelle (4) umschliessenden Einrichtung (9) ein Magnetfeld erzeugt und eine Stromversorgungseinrichtung (6) elektrisch leitend mit der Materialquelle (4) verbunden wird, wodurch die Materialquelle (4) als Katode einer Glimmentladung agiert. Die Einrichtung (9) wird dabei derart ausgebildet, dass das durch sie erzeugte Magnetfeld bezüglich seiner senkrecht zur Mündungsöffnung (5) verlaufenden Komponente einen magnetischen Nullpunkt vor der Mündungsöffnung (5) der Materialquelle (4) aufweist.; Ferner wird die Stromversorgungseinrichtung (6) gepulst betrieben, wobei die Puls-Ein-Zeit maximal 5 % eines Pulszyklus beträgt und die Pulsstromdichte bezogen auf die Fläche der Mündungsöffnung grösser als 10 A/cm2 eingestellt wird.