Patent
Title

Roentgenmaske aus mit Siliziumnitridschichten kombiniertem Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung

Other Title
X-ray mask made of silicon combined with silicon nidride layers and process for its production
Abstract
Bei einer Roentgenmaske aus mit Siliziumnitridschichten kombiniertem Silizium ist eine Siliziummembran (3) im Bereich der Justiermarken vollstaendig entfernt, wobei eine duenne Siliziumnitridschicht (1) die Traegerfunktion uebernimmt und gleichzeitig als Haftschicht fuer die bei der galvanischen Absorberstrukturierung erforderliche Startschicht (7) oder bei der subtraktiven Strukturierung unmittelbar fuer die Absorber als Haftschicht dient.
Inventor(s)
Betz, H.
Csepregi, L.
Huber, H.L.
Windbracke, W.
Link to:
Patent Number
1987-3715865
Publication Date
1988
Language
German