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Patent
Title
Vorrichtung und Verfahren zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen
Other Title
Device and method for quantitative analysis of the contamination of surfaces
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen. Diese umfasst eine mindestens eine Strahlungsquelle enthaltende Strahlungsquelleneinheit, eine mindestens einen Strahlungsdetektor enthaltende Strahlungsdetektoreinheit, eine Halterung, durch welche die Strahlungsquelleneinheit und die Strahlungsdetektoreinheit fixiert sind und eine Steuereinheit zur Steuerung der Vorrichtung sowie zur Auswertung eines im Strahlungsdetektor erzeugten Signals. Ferner umfasst die Vorrichtung ein optisches Filterelement und/oder ein elektronisches Filterelement. Zudem betrifft die vorliegende Erfindung auch ein Verfahren zur quantitativen Analyse der Verschmutzung von Oberflächen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung bzw. das erfindungsgemäße Verfahren ermöglichen eine einfache und zuverlässige sowie zeit- und kostensparende Beurteilung der Staub- und Schmutzbelastung auf Oberflächen, wie z.B. auf Oberflächen von Photovoltaik-Modulen (PV-Modulen).
Inventor(s)
Brachmann, Stefan
Ketterer, Jürgen
Patent Number
102017221843
Publication Date
2019
Language
German