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Fraunhofer-Gesellschaft
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Patent
Title

Feldeffekttransistor

Other Title
Field effect transistor
Abstract
Ein Feldeffekttransistor verfuegt ueber ein Substrat (1), auf dem eine undotierte Gallium-Arsenid-Schicht (2) aufgebracht ist. Als naechste Schicht folgt eine gut leitende Schicht (3) aus Erbium-Arsenid bzw. Ytterbium-Arsenid. Die vierte Schicht der Schichtenfolge besteht aus einer duennen undotierten Gallium-Arsenid-Schicht (4), auf der Metallstreifen (5, 6, 7) zur Bildung der Sourceelektrode, Gateelektrode und Drainelektrode aufgedampft sind.
Inventor(s)
Smith, R.
Wennekers, P.
Link to:
Espacenet
Patent Number
1987-3728136
Publication Date
1989
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
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