Plasmaionenquelle für eine Vakuumbeschichtungsanlage

Es wird eine Plasmaionenquelle (1) für eine Vakuumbeschichtungsanlage angegeben, die eine Kathode (2), eine die Kathode (2) umgebende Anode (3), und ein elektrisch isolierendes Element (4), das unter der Kathode (2) angeordnet ist, aufweist. Das elektrisch isolierende Element (4) enthält ein Keramikmaterial, wobei zumindest ein Bereich (4b) der Oberfläche des elektrischen isolierenden Elements (4) mit einem Metall (5) versehen ist.

The plasma ion source (1) has a cathode (2) that surrounds an anode (3). An electrically insulating element (4) is arranged below the cathode. The electrically insulating element is made of ceramic material selected from boron nitride. A metal (5) is provided in the region (4b) of the electrical insulating element. The metal is selected from titanium, zircon or hafnium. The metal is provided with a melting point of above 1500[deg] C. The region of the electrical insulating element is in form of a truncated cone.