Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas sowie Verwendung derselben

(A1) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasmas (9) in einer Vakuumarbeitskammer, in welcher eine Bogenentladung zwischen einer Hohlkathode (1) und einer Anode (4) erzeugt und die Hohlkathode (1) in einem Magnetfeld (6) angeordnet wird, welches zumindest in einem die Hohlkathode (1) durchdringenden Bereich mit Feldlinien ausgebildet wird, die im Wesentlichen parallel zur Hohlkathodenachse verlaufen, wobei die Anode (4) derart ausgebildet wird, dass diese die Hohlkathode (1) zumindest elektronenaustrittsseitig umschliesst und die Stärke des Magnetfeldes (6) so hoch eingestellt wird, dass durch Verringern des Flusses (7) eines die Hohlkathode (1) durchströmenden Gases die Plasmadichte in der Vakuumarbeitskammer erhöht wird.

DE 102006027853 A1 UPAB: 20080226 NOVELTY - Production of a plasma (9) in a vacuum chamber comprises using an anode (4) which encloses a hollow cathode (1) on the electron outlet side. The strength of the magnetic field is adjusted so that the plasma density is increased in the vacuum chamber by reducing the flow (7) of a gas passing through the cathode. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for a device for producing a plasma in a vacuum chamber. USE - For producing layers in a physical vapor deposition method. ADVANTAGE - Higher plasma densities are produced.