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Fraunhofer-Gesellschaft
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Patent
Title

Kantenemittierender Halbleiterlaser

Other Title
Edge-centering semiconductor laser i.e. board area laser, has trench extending from upper side of body into upper cover layer and deeply moved such that deepest position of trench is not greater than specified nm of upper cover layer
Abstract
(A1) Es wird ein kantenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkoerper (1), der einen Wellenleiterbereich (2) aufweist, angegeben. Der Wellenleiterbereich (2) weist eine untere Mantelschicht (3a), eine untere Wellenleiterschicht (4a), eine aktive Schicht (5) zur Erzeugung von Laserstrahlung, eine obere Wellenleiterschicht (4b) und eine obere Mantelschicht (3b) auf. Weiterhin weist der Wellenleiterbereich (2) mindestens einen strukturierten Bereich (6) zur Streuung der Laserstrahlung auf, in dem eine laterale Grundmode der Laserstrahlung geringere Streuverluste als die Strahlung hoeherer Lasermoden erfaehrt.

; 

WO 2010057955 A2 UPAB: 20100609 NOVELTY - The laser has a semiconductor body (1) including a wave guide area (2) with lower wave guide and lower cover layers (3a, 4a), an active layer (5) for generating laser radiation, upper wave guide and upper cover layers (4b, 3b). The area includes a structured area (6) for mode selection, and a scattering loss of lateral base laser radiation mode is less than radiation of higher laser modes. A trench (7) extends from an upper side of the body into the upper cover layer, and is deeply moved such that deepest position of the trench is not greater than 300 nm of the upper cover layer. USE - Edge-centering semiconductor laser i.e. board area laser. ADVANTAGE - The laser is designed with the high beam quality and high output power, and ensures high optical performance from an edge emitter without exceeding the critical power density.
Inventor(s)
Eckstein, H.-C.
Zeitner, U.
Schmid, W.
Link to Espacenet
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&locale=en_EP&FT=D&CC=DE&NR=102008058435A
Patent Number
102008058435
Publication Date
2008
Language
German
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF  
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