Verfahren zur Reduzierung der optischen Reflexion an Solarzellen

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reduzierung der optischen Reflexion an Solarzellen, die wenigstens eine aktive Schicht aus einem Halbleitermaterial aufweisen, auf die eine Passivierungs- und/oder Antireflexionsschicht aufgebracht ist. Bei dem Verfahren wird nicht die Schicht aus dem Halbleitermaterial sondern die Passivierungs- und/oder Antireflexionsschicht mit einem Plasmaätzprozess unter Bildung von Nanostrukturen texturiert, um die optische Reflexion an der Solarzelle zu reduzieren. Das Verfahren vermeidet die Probleme der Schädigung und Verunreinigung der Schicht aus dem Halbleitermaterial und erreicht damit eine Reduzierung der optischen Reflexion ohne eine negative Beeinträchtigung des Wirkungsgrades der Solarzelle.