Collin, DanielaDanielaCollinDomann, GerhardGerhardDomann2022-03-082022-03-082014https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/310313Die vorliegende Erfindung betrifft ein spezielles Heteropolymer, nämlich eine Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensat mit Positiv-Resist-Verhalten, das sich durch Polykondensation bzw. Copolykondensation speziell modifizierter Silane auszeichnet. Die Erfindung betrifft ebenso monomere Silane, aus denen sich die entsprechenden Heteropolymere, sprich die Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate herstellen lassen. Die erfindungsgemässe Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate sind für einen Photolack einsetzbar, der ein Positiv-Resist-Verhalten aufweist. Zudem betrifft die Erfindung entsprechende Verfahren sowohl zur Herstellung der Silane, der Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensate bzw. ein Verfahren zur photochemischen Strukturierung des erfindungsgemässen Photolacks, der auf den Kieselsäure(hetero)poly(co)kondensaten basiert.The present invention relates to a specific heteropolymer, namely a silica (hetero)poly(co)condensate having positive resist characteristics, which is notable for polycondensation or copolycondensation of specifically modified silanes. The invention likewise relates to monomeric silanes from which the corresponding heteropolymers, i.e. the silica (hetero)poly(co)condensates, can be prepared. The inventive silica (hetero)poly(co)condensates are usable for a photoresist having positive resist characteristics. The invention additionally relates to corresponding processes for preparing both the silanes and the silica (hetero)poly(co)condensates, and to a process for photochemical structuring of the inventive photoresist based on the silica (hetero)poly(co)condensates.de666patent102013003329