Popall, M.M.PopallSchulz, J.J.SchulzPilz, M.M.PilzOlsowski, B.E.B.E.Olsowski2022-03-082022-03-081998https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/304017de608666Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Silicon- und Zirkonium-enthaltendem LackSilicon- and zirconium-containing resin, its application for coating a substrate and thus the treated substratespatent1992-7007