Verfahren zur Behandlung von porösen Substraten sowie behandeltes Substrat und dessen Verwendung

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung von porösen Substraten. Im Verfahren wird zunächst mindestens eine Oberfläche eines porösen kohlenstoffhaltigen Substrats mit mindestens einer Silicium-Beschichtung versehen, indem mindestens eine wässrige Suspension umfassend Silicium-Partikel, mindestens ein Bindemittel und Wasser auf die mindestens eine Oberfläche aufgebracht und danach einem Trocknungsprozess unterzogen wird. Die mindestens eine Silicium-Beschichtung wird dann mindestens einer Wärmebehandlung unterzogen, bei welcher die Silicium-Beschichtung zu einer Schmelze aufschmilzt, die in die Poren des porösen kohlenstoffhaltigen Substrats infiltriert, wobei in der Schmelze enthaltendes Silicium zumindest teilweise in Siliciumcarbid umgewandelt wird. Ferner betrifft die vorliegende Erfindung auch ein behandeltes Substrat sowie dessen Verwendung.