Barriereschichtsystem und Verfahren zum Herstellen eines Barriereschichtsystems

Die Erfindung betrifft ein Schichtsystem mit Barriereeigenschaften gegenüber Sauerstoff und Wasserdampf und ein Verfahren zum Herstellen eines Schichtsystems, welches Barriereeigenschaften gegenüber Sauerstoff und Wasserdampf aufweist, mit den Verfahrensschritten:a) Ausbilden eines Wechselschichtsystems, bestehend aus mindestens zwei Aluminiumoxidschichten (12; 22; 32) und mindestens zwei Titanoxidschichten (13; 23; 33), bei welchem die Aluminiumoxidschichten (12; 22; 32) und die Titanoxidschichten (13; 23; 33) im Wechsel übereinander abgeschieden werden;b) wobei die Aluminiumoxidschichten (12; 22; 32) und die Titanoxidschichten (13; 23; 33) mittels ALD-Schichtabscheidung und jeweils mit einer Schichtdicke von 5 nm bis 20 nm abgeschieden werden;c) Abscheiden einer ersten Paryleneschicht (14; 24; 34a) mit einer Schichtdicke von 0,1 µm bis 50 µm auf einer ersten Seite des Wechselschichtsystems mittels CVD.