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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Entwicklung des Float-Zone-Verfahrens zur Herstellung von Siliziumeinkristallen für solare Anwendungen
 
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2019
  • Dissertation

Titel

Entwicklung des Float-Zone-Verfahrens zur Herstellung von Siliziumeinkristallen für solare Anwendungen

Abstract
Mit dem Float-Zone-Verfahren hergestellte Kristalle bieten die höchste Reinheit und Qualität des Elements Silizium. Den äußerst geringen Verunreinigungsgehalten steht ein aufwändiger Prozess gegenüber. Mit der vorgestellten Pre-Pulled-Float-Zone Methode konnte eine wirtschaftliche Lösung entwickelt werden, die dem Kostendruck in der Solarbranche standhalten kann. Weitere Anpassungen des Prozesses an die Ansprüche der Photovoltaik-Industrie wurden mit der Implementierung einer zuverlässigen Gasphasendotierung und der Entwicklung eines verbesserten Dotierstoffmodells erreicht. <br />Die Qualität der Kristalle wurde unter anderem durch Neutronenaktivierungsanalyse bestätigt, die hervorragenden elektrischen Eigenschaften mit Ladungsträgerlebensdauern bis acht Millisekunden belegt. Das Potential dieses Verfahrens konnte schließlich durch die Herstellung von höchsteffizienten Solarzellen unterstrichen werden. Ebenfalls konnten Grenzwerte von Kupfer und Eisenkontaminationen im Ausgangsmaterial ermittelt werden, die für eine Fertigung von Solarzellen relevant sind.
ThesisNote
Zugl.: Halle-Wittenberg, Univ., Diss., 2018
Author(s)
Zobel, Frank
Beteiligt
Wehrspohn, Ralf B.
Dold, Peter
Bickermann, Matthias
ISBN
978-3-8396-1449-5
3-8396-1449-X
Verlag
Fraunhofer Verlag
Verlagsort
Stuttgart
File(s)
N-546263.pdf (50.63 MB)
Language
Deutsch
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ISE
Tags
  • Applied physics

  • Crystallography

  • Heat transfer process...

  • Electricity

  • electromagnetism

  • magnetism

  • Kristallzüchtung

  • Solartechnik

  • Induktionserwärmung

  • Float-Zone-Silizium

  • Halbleitertechnik

  • Industrie

  • angewandte Forschung

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