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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Elektrolytische Schichten für Anwendungen in der Photovoltaik
 
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2010
Conference Paper
Title

Elektrolytische Schichten für Anwendungen in der Photovoltaik

Abstract
In der Photovoltaik werden elektrolytische Schichten eingesetzt, um den photoelektrisch generierten Strom vom Halbleiter über eine Metallisierung auf das Modul abzuleiten. Die Reinheit und Schichtdicke von üblichen Siebdruck-Metallisierungen kann galvanotechnisch erhöht werden, wodurch eine deutliche Senkung der Bahnwiderstände erreicht wird. Die abgeschiedenen Schichten weisen dabei ein epitaktisches Wachstum auf den Siebdruckschichten auf. Als neuartiges, alternatives Verfahren wird die Direkt-Metallisierung entwickelt. Zur Senkung des Kontaktwiderstandes werden Metallstacks bestehend aus Nickel, Kupfer, Zinn untersucht. Das Nickel dient als Kontakt- sowie als Barriereschicht für das Kupfer zur Verhinderung von Shunts in der Solarzelle. Zur Abscheidung von möglichst dünnen aber dennoch vollständig bedeckenden Schichten weist das Pulsstromverfahren deutliche Vorteile gegenüber der Gleichstromabscheidung auf.
Author(s)
Rabbow, Thomas
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS  
Jablonowski, Robert  
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS  
Roch, Mariana
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS  
Petri, Marc
Roth & Rau AG, Hohenstein-Ernstthal
Schneider, Michael  
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS  
Mainwork
Symposium "Galvanik - eine etablierte Technik innovativ angewendet"  
Conference
Symposium "Galvanik - eine etablierte Technik innovativ angewendet" 2010  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTS  
Keyword(s)
  • photovoltaisches Bauelement

  • Metallisierung

  • Metallische Schicht

  • metallische Leitfähigkeit

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