Entwicklung und Charakterisierung von CMOS-kompatiblen Mikrolampen mit Hilfe der Verfahren der Oberflächenmikromechanik

Aktive lichtemittierende Bauelemente auf Silizium wären die ideale Lösung bei der Herstellung kostengünstiger und hochauflösender Flachbildschirme und Anzeigelemente. Aufgrund der physikalischen Eigenschaften von Silizium ist dies mit der heute nahezu ausschließlich eingesetzten CMOS-Technologie zur Herstellung höchstintegrierter Schaltkreise jedoch nicht möglich. Diese Arbeit befaßt sich nun mit dem Ansatz, zwei bekannte Vorgänge der Lichterzeugung (Temperatur- und Gasentladungsstrahlung) durch Ausbildung 3-dimensionaler Strukturen auf Silizium zu integrieren und zu betreiben. Die Herstellung erfolgt hierbei vollständig kompatibel zur CMOS-Technologie mit Verfahren der Oberflächenmikromechanik. Beide Strukturen werden elektrisch und optisch getestet und bewertet. Somit ist ein direkter Bezug zu bestehenden Displaytechnologien möglich.