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Konferenzschrift
Seed-layer resistance and its impact on the electrochemical copper deposition
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2017
Presentation
Title
Seed-layer resistance and its impact on the electrochemical copper deposition
Title Supplement
Presentation held at 20. Workshop der GMM - Fachgruppe 1.2.3 Abscheide- und Ätzverfahren, 13. Dezember 2017, Erlangen
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Author(s)
Wislicenus, Marcus
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS
Gerlich, Lukas
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS
Koch, Johannes
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS
Uhlig, Benjamin
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS
Conference
Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik, Fachgruppe Abscheide- und Ätzverfahren (Workshop) 2017
Request publication:
bibliothek@ipms.fraunhofer.de
Language
English
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS