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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Seed-layer resistance and its impact on the electrochemical copper deposition
 
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2017
Presentation
Title

Seed-layer resistance and its impact on the electrochemical copper deposition

Title Supplement
Presentation held at 20. Workshop der GMM - Fachgruppe 1.2.3 Abscheide- und Ätzverfahren, 13. Dezember 2017, Erlangen
Author(s)
Wislicenus, Marcus  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Gerlich, Lukas  
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Koch, Johannes
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Uhlig, Benjamin
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Conference
Gesellschaft Mikroelektronik, Mikro- und Feinwerktechnik, Fachgruppe Abscheide- und Ätzverfahren (Workshop) 2017  
Request publication:
bibliothek@ipms.fraunhofer.de
Language
English
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
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