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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Numerical modelling of double-injection Si - In devices
 
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1986
Journal Article
Title

Numerical modelling of double-injection Si - In devices

Author(s)
Hurm, V.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Hornung, J.C.R.
Manck, O.
Journal
Journal of applied physics  
DOI
10.1063/1.337740
Language
English
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Keyword(s)
  • indium-dotiertes Silizium

  • Ladungsträgerinjektion

  • Numerik

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