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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Partikelemission, chemische Resistenz und Reinigbarkeit von Werkstoffen
 
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2011
Presentation
Title

Partikelemission, chemische Resistenz und Reinigbarkeit von Werkstoffen

Title Supplement
Vortrag gehalten auf der Reinraum-Lounge, Lounges 2011, 15.-17. Februar 2011, Karlsruhe. HygieniCon, Analytic Lounge, Facility Lounge, GMP Lounge, IPM Lounge, Outsourcing Lounge, Powder Lounge, Pharmtech Lounge, Reinraum Lounge, Wasser Lounge; Vortragssession: Normung und Richtlinien
Author(s)
Gommel, Udo  
Conference
Messe "Lounges" 2011  
DOI
10.24406/publica-fhg-371058
File(s)
001.pdf (1.58 MB)
Rights
Under Copyright
Language
German
Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA  
Keyword(s)
  • Reinraumtauglichkeit

  • VDI 2083-17

  • Partikelemission

  • Cleanroom suitable materials (CSM)

  • chemische Beständigkeit

  • chemische Resistenz

  • Reinraum

  • Teilchen

  • Werkstoff

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