Methoden zur lokalen Funktionalisierung von Oberflächen

Kontaminationen in hybriden Mikrosystemen lassen sich nur zu einem gewissen Teil durch präventive Maßnahmen, z. B. der Reinraumtechnik, in den Griff bekommen. Zunehmend werden Methoden zur lokalen Reinigung der Funktionsflächen direkt vor deren Montage eingesetzt. Auch in der Nanotechnik wird der fertigungstechnische Ansatz der Hybridfertigung und die hieraus resultierende Notwendigkeit zur lokalen Reinigung eine entscheidende Rolle spielen. Hierbei können Verfahren, welche in der Mikrowelt zur lokalen Oberflächenreinigung herangezogen werden, in der Nanowelt zur Veränderung der Oberflächenmorphologie eingesetzt werden. Dabei umfasst das Stichwort Funktionalisieren die folgenden Prozesse: Reinigen, Aktivieren, Passivieren und Strukturieren. Geeignet sind insbesondere Verfahren, die lokal begrenzt und materialschonend eingestellt werden können, die berührungslos, rückstandsfrei und materialunabhängig arbeiten und die automatisierbar und inlinefähig sind. All diese Anforderungen reduzieren die Zahl der einsetzbaren Reinigungsverfahren auf die Klasse der Strahlverfahren. Diese können unterteilt werden in photonisch (z.B. Laser), mit aktivierten Gasen (z. B. Plasmaverfahren) und mit verdampfenden Flüssigkeiten arbeitenden Verfahren (CO2-Schneeverfahren), welche näher erläutert werden.