Optimierte Präparationsstrategien breitbandiger oxidischer AR-Systeme

Am Beispiel breitbandiger oxidischer Antireflexbeschichtungen mittels PIAD werden optimierte Präparationsstrategien für Dünnschichtsysteme vorgestellt und diskutiert. Durch Simulation des Beschichtungsprozesses (computational manufacturing) kann bereits vor der Präparation die zu erwartende Ausbeute für die jeweilige Strategie abgeschätzt werden. Die dazu notwendigen Eingangsgrößen für die Prozesskontrolle mit Schwingquarz und dem Prozessphotometer OptiMon können experimentell ermittelt werden. Entsprechend können auch Strategien simuliert werden, bei denen beide Prozesskontrollverfahren in Kombination zum Einsatz kommen. In Verbindung mit der OptiLayer-Software kann außerdem eine automatische Fehlerkompensation durch Anpassung der Schichtdicken noch nicht abgeschiedener Schichten bei der Simulation berücksichtigt und im Experiment praktiziert werden.