2004
Diploma Thesis
Title

Prozessoptimierung zur Abscheidung von Silizium-Nitrid Schichten auf kristallinen Siliziumwafern mittels Plasmaunterstützten Abscheideverfahren (PECVD)

Abstract
Diplomarbeit an der Universität Dortmund, Fachbereich Elektrotechnik. Angefertigt am Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme Freiburg (ISE), Labor- und Servicecenter Gelsenkirchen.
Thesis Note
Dortmund, Univ., Dipl.-Arb., 2004
Author(s)
Abusnina, Mohamed
Advisor(s)
Voges, Edgar
Publishing Place
Gelsenkirchen
Language
German