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Anwendung organischer Resistmaterialien in der Synchrotronlithographie
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1990
Journal Article
Title
Anwendung organischer Resistmaterialien in der Synchrotronlithographie
Author(s)
Heuberger, A.
Trube, J.
Journal
Die Angewandte Makromolekulare Chemie
Language
German
Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT
