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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Dünnschichttechnologie
 
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2016
Journal Article
Title

Dünnschichttechnologie

Title Supplement
Enthält 24 Beiträge: Physikalische Gasphasenabscheidung / Vakuumverdampfen / Bedampfen I / Bedampfen II / Zerstäuben von Oberflächen / Sputter-Abscheidung I / Sputter-Abscheidung II / Vakuumbogen / Vakuumbogen-Abscheidung I / Vakuumbogen-Abscheidung II / Puls-Laser-Deposition (PLD) / Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) / Thermische CVD / Plasma-CVD / Atmosphärendruck-Plasma-CVD / Kombinations- und Mehrschrittverfahren / Beschichtung von Sondergeometrien / Vakuumanforderungen der PVD / Partikelbildung bei der CVD / Plasma-Eigenschaften / Gasentladungs-Plasmen / Plasma-Randschichten / Wechselfeld-Plasmen / Anforderungen an Beschichtungsverfahren
Author(s)
Schultrich, Bernd  
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS  
Journal
Vakuum in Forschung und Praxis  
DOI
10.1002/vipr.201690013
Language
German
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS  
Keyword(s)
  • Mehrschrittverfahren

  • Puls-Laser-Deposition

  • Vakuumverdampfen

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