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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Patterning flat and tilted 4H-SiC by Ga+ resistless lithography and subsequent reactive ion etching
 
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Options
2013
Poster
Title

Patterning flat and tilted 4H-SiC by Ga+ resistless lithography and subsequent reactive ion etching

Title Supplement
Poster presented at MNE 2013, 39th International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2013, London, United Kingdom
Author(s)
Beuer, Susanne  orcid-logo
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Rommel, Mathias  orcid-logo
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Rumler, Maximilian
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Haas, Anke  
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Bauer, A.J.
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Frey, Lothar
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
Conference
International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE) 2013  
File(s)
Download (4.53 MB)
Rights
Use according to copyright law
DOI
10.24406/publica-fhg-380872
Language
English
Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB  
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