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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. TCO-Schichten für OLED-Displays und Beleuchtungen
 
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2005
Conference Paper
Title

TCO-Schichten für OLED-Displays und Beleuchtungen

Abstract
Organische Lichtemittierende Dioden (OLED) zeichneten sich in den letzten Jahren durch gigantische Entwicklungssprünge aus. Erste Produkte, vornehmlich im Displaybereich, sind bereits am Markt eingeführt. Am Fraunhofer IPMS wird an einer vertikalen Durchlaufbeschichtungsanlage für OLED eine industrienahe Technologie entwickelt, um OLED-Systeme der nächsten und darauffolgender Generationen zu fertigen. Gegenstand der Entwicklungen sind die notwendigen Fertigungs-, Systemintegrations- und Aufbautechnologien. Neben dem Aufbau des organischen Schichtstapels kommt dabei den Kontaktschichten, von denen naturgemäß mindestens eine transparent sein muß, besondere Bedeutung zu. Dabei findet größtenteils Indiumzinnoxid Verwendung. Neben einer Vorstellung der Technologien und Märkte für OLED werden die besonderen Anforderungen an TCO-Schichten im Vergleich zu Anwendungen für LCD-Displays und Photovoltaik dargestellt. Schwerpunkt liegt auf der Vorstellung von Lösungsansätzen und eigenen Arbeiten zu den Themen - Geringer Spannungsabfall auf großen Flächen bei hoher Transparenz - Oberflächenrauhigkeit - Schädigungsarme Abscheidung.
Author(s)
May, C.
Löffler, F.
Amelung, J.
Mainwork
TCO für Dünnschichtsolarzellen und andere Anwendungen III  
Conference
Workshop "TCO-Schichten für Dünnschichtsolarzellen und andere Anwendungen" 2005  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS  
Keyword(s)
  • OLED

  • ITO

  • TCO-Schichten

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