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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. High-rate deposition of MgO by reactive ac pulsed magnetron sputtering in the transition mode
 
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2006
Journal Article
Title

High-rate deposition of MgO by reactive ac pulsed magnetron sputtering in the transition mode

Author(s)
Kupfer, H.
University of Technology, Chemnitz
Kleinhempel, R.
University of Technology, Chemnitz
Richter, F.
University of Technology, Chemnitz
Peters, C.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Krause, U.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Kopte, T.
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Cheng, Y.
University of Texas at Arlington
Journal
Journal of vacuum science and technology A. Vacuum, surfaces and films  
DOI
10.1116/1.2138717
Language
English
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP  
Keyword(s)
  • high rate

  • magnetron sputtering

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