Fensterbeschichtung mit Durchblick

Die Herstellung moderner optischer Dünnschichtsysteme erfolgt heute fast ausschließlich durch Vakuum-Beschichtungsverfahren. Erforderlich ist dazu eine Anlagentechnik, die sowohl die hohen Qualitätsanfoderungen an die Beschichtung erfüllt als auch ein effizientes Auftragen der Schichten ermöglicht. Zum Erreichen dieser Ziele ist die spektroskopische Ellipsometrie als zerstörungsfreies und empfindliches Verfahren gut geeignet. Dabei wird die Änderung des Polarisationszustandes von linear oder zirkular poalarisiertem Licht nach einer Reflexion von der Oberfläche spektral analysiert. Bisher gehört die spektroskopische Ellipsometrie nicht zum Stand der Technik im Einsatz bei industriellen Glasbeschichtungsanlagen. Im Rahmen eines vom BMBF geförderten Industrie-Verbundprojektes wurden ellipsometrische Untersuchungen in einer Inline-ex-Situ-Anordnung an einer Glasbeschichtungsanlage durchgeführt. In der Messanordnung kann das fertige Schichtsystem monitoriert werden. Um ellipsometrische Messungen im Produktionsprozess auf einer Inline-Anlage durchführen zu können, entwickelte Sentech Instruments, Berlin, einen neuen Messkopf. Dieses System kommt mit nur einem Vakuumflansch aus, was für Messungen an einer Inline-Anlage von entscheidendem Vorteil ist. Mit dem Gerät konnte das Schichtsystem Vakuum - Glas - SnO2 (30 nm) - ZnO (3 nm) - Ag (10 nm) -NiCrOx (5nm) - Vakuum monitoriert werden. Besondere Bedeutung wird das Messverfahren möglicherweise erlangen, wenn noch komplexere, zur Zeit in Entwicklung befindliche Schichtsysteme in die Produktion umgesetzt werden.