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Konferenzschrift
Anwendung organischer Resistmaterialien in der Synchrotronlithographie
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1990
Conference Paper
Title
Anwendung organischer Resistmaterialien in der Synchrotronlithographie
Author(s)
Heuberger, A.
Mainwork
Polymere und Licht
Conference
Polymere und Licht 1990
Language
German
Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT
