Einsatz des Laser-Lichtschnittverfahrens zur Optimierung von Reinraumströmungen

Bei der Halbleiterherstellung ist der Schutz der Substrate vor partikulären Verunreinigungen eines der Hauptprobleme. Die Fertigung erfolgt deshalb in Reinräumen, die über Filteranlagen mit weitgehend partikelfreier Luft versorgt werden. Für die Reinheit in unmittelbarer Umgebung der Substrate sind neben der Zuluftqualität auch die Strömungsverhältnisse im Reinraum und am Fertigungsgerät entscheidend. Im vorliegenden Beitrag wird das Laser-Lichtschnittverfahren vorgestellt, mit dem Strömungen sichtbar gemacht werden können. Anhand der Umströmung einer Prozeßstation wird die Aussagekraft des Verfahrens demonstriert.