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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Wohltemperierte Siliziumscheiben - Simulation und Messung der Temperaturverteilung in einem vertikalen Schichtabscheideofen
 
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1999
Journal Article
Title

Wohltemperierte Siliziumscheiben - Simulation und Messung der Temperaturverteilung in einem vertikalen Schichtabscheideofen

Abstract
Die Temperaturverteilung in einem Schichtabscheideofen fuer Silicumscheiben wurde untersucht. Dazu wurden Simulationen mit dem Programm Phoenics-CVD und Messungen mit Thermoelementdrahtpaaren durchgefuehrt. Fuer die Simulation der Regelkreise wurde ein neuer Algorithmus programmiert. Experiment und Simulation zeigen hervorragende Uebereinstimmung.
Author(s)
Poscher, S.
Wellner, S.
Ryssel, H.
Journal
F und M. Feinwerktechnik, Mikrotechnik, Mikroelektronik  
Language
German
IIS-B  
Keyword(s)
  • Ofen

  • Phoenics-CVD

  • Schichtabscheidung

  • silicium

  • simulation

  • Temperaturverteilung

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