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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Growth and layer structure optimization of 2.26 µm (AlGaIn)(AsSb) diode lasers for room temperature operation
 
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2001
Journal Article
Title

Growth and layer structure optimization of 2.26 µm (AlGaIn)(AsSb) diode lasers for room temperature operation

Other Title
Wachstum und Schichtstrukturoptimierung von 2.26 µm (AlGaIn)(asSb) Laserdioden für Raumtemperaturbetrieb
Abstract
The optimization of MBE growth conditions and layer structures for room temperature operation of 2.26 mu m AlGaAsSb/GalnAsSb laser structures is investigated. Index guided triple quantum well large optical cavity diode lasers with 64 mu m x 1000 mu m cavities and high reflection/antireflection coated facets reveal a cw output power of 350 mW at T = 280 K. An internal quantum efficiency eta(i) of 69 %, internal losses chi(i) of 7.7 cm(exp -1) and a threshold current density for infinite cavity length of 144 A/cm2 are obtained for this structure.
Author(s)
Simanowski, S.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Mermelstein, C.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Walther, Martin  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Herres, N.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Kiefer, R.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Rattunde, Marcel  
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Schmitz, J.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Wagner, J.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Weimann, G.
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Journal
Journal of Crystal Growth  
DOI
10.1016/S0022-0248(01)00779-5
Language
English
Fraunhofer-Institut für Angewandte Festkörperphysik IAF  
Keyword(s)
  • molecular beam epitaxy

  • antimonide

  • semiconducting III-V material

  • semiconducting quaternary alloy

  • laser diode

  • Molekularstrahlepitaxie

  • III-V Halbleiter

  • quaternary alloy

  • quaternäre Legierung

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