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  4. Die Herstellung isolierender oxidischer Verschleißschutzschichten auf der Basis von Chrom-Silizium durch reaktives DC-Hochratezerstäuben
 
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1987
Journal Article
Titel

Die Herstellung isolierender oxidischer Verschleißschutzschichten auf der Basis von Chrom-Silizium durch reaktives DC-Hochratezerstäuben

Author(s)
Schiller, S.
Heisig, U.
Korndörfer, C.
Steinfelder, K.
Zeitschrift
Vakuum-Technik
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Language
German
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Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
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