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Die Herstellung isolierender oxidischer Verschleißschutzschichten auf der Basis von Chrom-Silizium durch reaktives DC-Hochratezerstäuben
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1987
Journal Article
Titel
Die Herstellung isolierender oxidischer Verschleißschutzschichten auf der Basis von Chrom-Silizium durch reaktives DC-Hochratezerstäuben
Author(s)
Schiller, S.
Heisig, U.
Korndörfer, C.
Steinfelder, K.
Zeitschrift
Vakuum-Technik
Language
German
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Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP