Abscheidung von kohlenstoffbasierten Schichten im Grobvakuum mittels Mittelfrequenz-Plasma-CVD

In der vorliegenden Arbeit wird ein Verfahren zur Abscheidung von kohlenstoffbasierten Schichten (a-C:H, Si-C:H, z.T. mit vorhergehender Plasmanitrierung (PN-Duplex-Schichten)) im Grobvakuum mittels Mittelfrequenz-Plasma-CVD entwickelt. Zwischen den Prozeßparametern und der mittleren Energie der im Plasma vorhandenen Ionen wird ein Zusammenhang formuliert und experimentell bestätigt. Die hier erzielten Schichteigenschaften sind vergleichbar mit denen aus dem im Labormaßstab etablierten Hochfrequenzprozeß (HF-PACVD). Die Ergebnisse der mechanischen Charakterisierung an Duplex-Schichten haben gezeigt, daß durch eine vorhergehende Plasmanitrierung die Haftfestigkeit schon bei relativ geringen Nitrierhärtetiefen von ca. 20 Mikrometer und somit kurzen Nitrierdauern von weniger als drei Stunden um (in Abhängigkeit vom Stahl) 60 bis 400% gesteigert werden kann. Der wirtschaftliche Vergleich der drei Verfahren HF-PACVD, MF-PACVD sowie Duplex-PN+MF-PACVD bildet den Abschluß der Untersuchungen.