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Die Herstellung von Antireflexionsschichten unter Nutzung des Puls-Magnetron-Sputterns
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1997
Book Article
Title
Die Herstellung von Antireflexionsschichten unter Nutzung des Puls-Magnetron-Sputterns
Author(s)
Kirchhoff, V.
Kopte, T.
Hartung, U.
Mainwork
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik. Jahresbericht 1996
Language
German
Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP
Keyword(s)
Antireflexionsschicht
Puls-Magnetron-Sputtern
