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Verfahren und Einsatzmöglichkeiten des Plasmatron-Hochratezerstäubens für Beschichtungsaufgaben der Elektronik
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1981
Journal Article
Title
Verfahren und Einsatzmöglichkeiten des Plasmatron-Hochratezerstäubens für Beschichtungsaufgaben der Elektronik
Author(s)
Schiller, S.
Heisig, U.
Goedicke, K.
Bilz, H.
Steinfelder, K.
Journal
Vakuum-Technik
Language
German
Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP