• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Artikel
  4. Schichtsysteme
 
  • Details
  • Full
Options
1996
Journal Article
Title

Schichtsysteme

Title Supplement
Innovative Schichtsysteme abgeschieden mit ECD- und PVD/CVD-Verfahren
Other Title
New Layer Systems
Abstract
Plasmaunterstützte- beziehungsweise ECD-Schichten sind zu einem unverzichtbaren Element leistungsfähiger und wirtschaftlicher Werkzeuge sowie Bauteile geworden. Durch die Kombination beider Verfahren können zusätzliche neue Anwendungsgebiete erschlossen werden. Vorgestellt werden unterschiedliche Schichtkombinationen und deren Einsatz in der Praxis. Plasma assisted, or ECD layers, have become an unrenouncable element of efficient and profitable tools and components. By combining both processes, new application areas can be developed in addition. Various combinations of layers and their practical use are introduced in here.
Author(s)
Fetzer, H.-J.
Gemmler, A.
Leyendecker, F.
Mann, D.
Journal
Metalloberfläche : mo  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Produktionstechnik und Automatisierung IPA  
Keyword(s)
  • CVD

  • Electrochemical deposition

  • Physikalisches Aufdampfen

  • plasma

  • plasma-Beschichtung

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024