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Abschlussarbeit
Abscheidung (CVD) und Charakterisierung W-basierter Diffusionsbarrieren für die Kupfermetallisierung
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2006
Doctoral Thesis
Title
Abscheidung (CVD) und Charakterisierung W-basierter Diffusionsbarrieren für die Kupfermetallisierung
Thesis Note
Chemnitz, TU, Diss., 2006
Author(s)
Ecke, R.
Publishing Place
Chemnitz
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Language
German
Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration IZM