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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Verfahrensgrundlagen der Laser-Arc-Verdampfung als Hochrate-Beschichtungsverfahren
 
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1992
Conference Paper
Titel

Verfahrensgrundlagen der Laser-Arc-Verdampfung als Hochrate-Beschichtungsverfahren

Alternative
Fundamental studies of the laser-arc-evaporation for the development of a highrate deposition method
Abstract
Der Laser-Arc ist eine laserinduzierte Bogenverdampferquelle für plasmagestützte Schichtabscheidung, deren Vorteil in der Steuerbarkeit der Entladung und gezielten Materialerosion besteht, so daß auch Schichtsysteme präzise, reproduzierbar und mit hoher Rate hergestellt werden können. Neben vertiefenden Untersuchungen zu Prozeßparametern wurde mit der baulichen Realisierung und technologischen Entwicklung begonnen, um die Eignung dieser Methode zur Hochratebeschichtung zu demonstrieren.
Author(s)
Schultrich, B.
Siemroth, P.
Scheibe, H.J.
Hauptwerk
Dünnschichttechnologien '92. Statusseminar. Berichte zu F+E-Projekten aus dem Förderbereich Physikalische Technologien des Bundesministeriums für Forschung und Technologie
Konferenz
Dünnschichttechnologien 1992
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Language
German
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Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS
Tags
  • DLC-film

  • DLC-Schicht

  • gepulste Abscheidung

  • Hartstoffschicht

  • Laser-Arc

  • laser-induced film deposition

  • laserinduzierte Schichtabscheidung

  • pulsed deposition

  • PVD-Technik

  • PVD-technique

  • vacuum arc deposition

  • Vakuumbogenbeschichtung

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