• English
  • Deutsch
  • Log In
    Password Login
    Research Outputs
    Fundings & Projects
    Researchers
    Institutes
    Statistics
Repository logo
Fraunhofer-Gesellschaft
  1. Home
  2. Fraunhofer-Gesellschaft
  3. Konferenzschrift
  4. Verfahrensgrundlagen der Laser-Arc-Verdampfung als Hochrate-Beschichtungsverfahren
 
  • Details
  • Full
Options
1992
Conference Paper
Title

Verfahrensgrundlagen der Laser-Arc-Verdampfung als Hochrate-Beschichtungsverfahren

Other Title
Fundamental studies of the laser-arc-evaporation for the development of a highrate deposition method
Abstract
Der Laser-Arc ist eine laserinduzierte Bogenverdampferquelle für plasmagestützte Schichtabscheidung, deren Vorteil in der Steuerbarkeit der Entladung und gezielten Materialerosion besteht, so daß auch Schichtsysteme präzise, reproduzierbar und mit hoher Rate hergestellt werden können. Neben vertiefenden Untersuchungen zu Prozeßparametern wurde mit der baulichen Realisierung und technologischen Entwicklung begonnen, um die Eignung dieser Methode zur Hochratebeschichtung zu demonstrieren.
Author(s)
Schultrich, B.
Siemroth, P.
Scheibe, H.J.
Mainwork
Dünnschichttechnologien '92. Statusseminar. Berichte zu F+E-Projekten aus dem Förderbereich Physikalische Technologien des Bundesministeriums für Forschung und Technologie  
Conference
Dünnschichttechnologien 1992  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS  
Keyword(s)
  • DLC-film

  • DLC-Schicht

  • gepulste Abscheidung

  • Hartstoffschicht

  • Laser-Arc

  • laser-induced film deposition

  • laserinduzierte Schichtabscheidung

  • pulsed deposition

  • PVD-Technik

  • PVD-technique

  • vacuum arc deposition

  • Vakuumbogenbeschichtung

  • Cookie settings
  • Imprint
  • Privacy policy
  • Api
  • Contact
© 2024