Temperaturstabile transparente und hochbrechende dünne Schichten auf der Basis von Titandioxid
Abstract
Die Einsatzmöglichkeiten moderner dielektrischer Dünnschichtsysteme sind breit gefächert und eng an die Entwicklung neuartiger Materialien mit teilweise noch unerforschten Eigenschaften geknüpft. Je nach Applikation werden ganz verschiedene Anforderungen an Material, Struktur und Funktion der Schichten gestellt. In vielen Bereichen - etwa auf Lampenkolben - ist ein Einsatz unter hohen Temperaturen von mehreren hundert Grad Celsius notwendig. Dabei führen thermisch aktivierte Kristallisationsprozesse jedoch zu einer optischen Degradation der Schichten. Dies erfordert Schichtsysteme aus besonders stabilen Werkstoffen. In dieser Arbeit werden unterschiedliche Konzepte zur Steigerung der Temperaturbeständigkeit von gesputterten dielektrischen und hochbrechenden Metalloxidschichten auf der Basis von Titandioxid untersucht. Die Anwendbarkeit der Schichten bei Temperaturen von über 900 °C wird durch eine Begrenzung der atomaren Diffusionskinetik erfolgreich demonstriert und die thermische Konstanz wesentlicher Filmcharakteristika wird dokumentiert.
