Maskenloses Lithographiesystem

Bei maskenlosen Lithographiesystemen zur Herstellung von nanostrukturierten Halbleiterschaltungen entstehen grosse Datenmengen zur Ansteuerung der Aperturen in den programmierbaren Mustererzeugungssystemen im Inneren der Vakuumkammer. Die bekannte Datenuebertragung erfolgt elektrisch ueber aufwaendige, platzeinnehmende und mechanisch in der Kontaktierung stark belastende Drahtverbindungen. Dagegen erfolgt die Datenuebertragung bei dem erfindungsgemaessen Lithographiesystem (1) mit einem leistungsfaehigen elektrooptischen Freistrahlverbindungssystem (8), mit dem die optischen Musterdaten von Lichtaustrittsorten (10) mittels Freistrahlen (11) auf Lichteintrittsorte (12) im Inneren der Vakuumkammer (4) zur Erzeugung von Steuersignalen gefuehrt werden. Das Mustererzeugungssystem (6) wird durch das Entfallen von mechanischen Kontaktierungen stark entlastet. In der Freistrahlstrecke koennen sich die Bahnen der Freistrahlen (11) und des Teilchenstrahls (5) beeinflussungsfrei kreuzen. Deshalb koennen die Lichteintrittsorte (12), beispielsweise aktive Photodioden (19), auch direkt im Mustererzeugungssystem (6) raeumlich angeordnet werden. Die Lichtaustrittsorte (10), beispielsweise passive Lichtwellenleiter (20), die in mehrpoligen Faserarraysteckern gebuendelt werden koennen, oder aktive Sendelaser koennen auch ausserhalb der Vakuumkammer (4) angeordnet sein, wobei die Freistrahlen (11) durch ein Fenster (21) hineingeleitet werden.

WO2004097527 A UPAB: 20041206 NOVELTY - The lithographic system (1) uses electrooptical transmission of the optical pattern data via free light beams (11), extending between light output points (10) outside the vacuum chamber (4) containing the programmable pattern production system and light reception points (12) inside of the vacuum chamber. USE - The mask-less lithographic system is used for micro structuring of a substrate, e.g. for manufacture of a monolithic integrated circuit or integrated circuit component. ADVANTAGE - Use of electrooptical transmission method with free light beams eliminates need for bulky electrical connections and mechanical contacts without conflict with particle beam.