Reflektierende Schichtenfolge mit Barriereschichten

Bei einer Schichtenfolge zur Reflexion von Strahlung mit einer Wellenlaenge zwischen 35 nm und 50 nm, die eine Mehrzahl alternierender Scandiumschichten (3) und Siliziumschichten (2) enthaelt, ist an Schichtuebergaengen, an denen in Wachstumsrichtung eine Siliziumschicht (2) auf eine Scandiumschicht (3) folgt, jeweils eine Barriereschicht (4) enthalten, die bevorzugt eine Chromschicht ist. In einer zweiten Ausfuehrungsform der Erfindung ist auch an den Schichtuebergaengen, an denen in Wachstumsrichtung eine Scandiumschicht (3) auf eine Siliziumschicht (2) folgt, jeweils eine Barriereschicht (6) aus Chrom enthalten. Die thermische Stabilitaet und/oder die Reflexion einer derartigen Schichtenfolge wird dadurch verbessert.

DE 10360540 A UPAB: 20050826 NOVELTY - Layer sequence comprises a substrate (1) with barrier layers (4) arranged between alternating scandium layers (3) and silicon layers (2). USE - Used in an optical element for reflecting radiation having a wavelength of 35-50 nm. ADVANTAGE - The layer sequence has high thermal stability.