Verfahren zum Kopieren von Lochmasken

Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung von Lochmasken aus duennen Membranen, bei dem auf die Membran ein Photolack aufgetragen und in diesem Photolack durch Elektronenstrahl- oder Roentgenstrahl-Belichtung das gewuenschte Muster erzeugt wird, und anschliessend das Muster mittels eines Aetzverfahrens auf die Membran uebertragen wird. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass mit dem Elektronenstrahl oder Roentgenstrahl lediglich die Umrandung des herzustellenden Loches belichtet und anschliessend der belichtete Abschnitt durchgeaetzt wird.